静电纺丝技术制备聚合物基MXene增强电磁屏蔽复合材料研究进展
曾志勇1, 曹丰1, 黄建2, 张风华3, 钱坤1, 李文兵1 (1. 江南大学纺织科学与工程学院;2. 南京玻璃纤维研究设计院有限公司;3. 哈尔滨工业大学特种环境复合材料技术国家级重点实验室)
摘要:随着电子信息技术的发展, 电磁波污染已经严重影响了人类健康和社会进步, 因此急需开发出一种高效的电磁干扰(electromagnetic interference, EMI)屏蔽材料. 静电纺丝技术可以制备出柔韧性好的超薄多孔纤维膜, 电磁波能够在纤维膜内部进行多次反射而被消耗. MXene作为一种新型的二维(2D)材料群体, 具有高比表面积、高导电性以及易加工性, 是一种潜在的EMI屏蔽材料. 因此, 将静电纺丝技术和MXene材料相结合, 能够制备出多功能的聚合物基MXene增强电磁屏蔽复合材料. 本文首先介绍了静电纺丝技术的概念、原理及其影响因素, 其次,分析了MXene材料的组成和制备方法, 最后, 讨论了静电纺丝技术制备聚合物基MXene增强电磁屏蔽复合材料的最新进展并对未来聚合物基MXene增强静电纺丝复合材料在电磁屏蔽领域的发展做出展望.
关键词:静电纺丝技术, 电磁屏蔽, MXene, 纳米纤维
目录介绍
1 引言
2 静电纺丝技术
2.1 静电纺丝的原理
2.2 静电纺丝的影响因素
2.2.1 溶液参数
2.2.2 工艺参数
2.2.3 环境参数
3 MXene
3.1 MXene材料的组成
3.2 MXene材料的制备方法
3.2.1 HF刻蚀
3.2.2 原位HF刻蚀
3.2.3 无氟刻蚀
3.2.4 电化学刻蚀
3.2.5 熔盐刻蚀
4 静电纺丝技术制备聚合物基MXene增强电磁屏蔽复合材料
4.1 一步法静电纺丝制备聚合物基MXene增强电磁屏蔽复合材料
4.2 多步法静电纺丝制备聚合物基MXene增强电磁屏蔽复合材料
4.2.1 浸渍沉积技术
4.2.2 喷射沉积技术
4.2.3 真空沉积技术
5 结论与展望
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