CVD金刚石膜研究进展
权乐1,2(1.中石化江钻石油机械有限公司;2. 中石化石油机械股份有限公司)
摘要:金刚石由于其优异的声、光、电、热和力学性能,是重要的功能材料之一。金刚石的制备方法主要有高温高压方法和低压化学气相沉积方法。化学气相沉积法因制备得到的样品质量高、面积大,设备简单、可规模化等特性,是合成金刚石膜的重要方法。为了实现低合成压力条件下的金刚石膜的均匀、快速、大尺寸、高质量生长,目前研究人员在金刚石低压生长的控制方面做出了深入的研究。文章综述了近年来化学气相沉积法(包括热丝CVD 法、离子体增强CVD 法、燃烧火焰CVD 法)生长金刚石膜的研究进展,包括金刚石膜的生长机理、关键设备、关键工艺参数等。此外,还详细讨论了生长过程中的关键工艺参数与金刚石膜生长速率和质量的关系,这些对化学气相沉积制备金刚石膜的研究、生产至关重要。
关键词:金刚石膜;化学气相沉积;等离子体增强化学气相沉积;热丝化学气相沉积;燃烧火焰化学;气相沉积
目录介绍
1 生长机理
1.1 CVD工艺简介
1.2 生长机理
2 CVD金刚石的主要生长设备
2.1 热丝CVD(HFCVD)
2.2 等离子体增强CVD(PECVD)
2.2.1 微波等离子体CVD(MPCVD)
2.2.2 直流电弧等离子体喷射CVD(Direct Current Arc Plasma Jet CVD)
2.3 燃烧火焰CVD(CFCVD)
3 关键工艺参数
3.1 基底
3.1.1 基底性质
3.1.2 基底预处理
3.2 反应气体
3.2.1 甲烷浓度
3.2.2 氢气浓度
3.2.3 其他气体
3.2.3.1 氮气
3.2.3.2 氩气
3.2.3.3 氧气
3.3 温度
3.4 压力
3.5 沉积参数与生长因子α
4 总结和展望
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