微纳铜材料的制备及其在封装互连中的应用

彭琳峰,杨凯,余胜涛,刘涛,谢伟良,杨世洪,张昱,崔成强 (广东工业大学省部共建精密电子制造技术与装备国家重点实验室)
摘要:半导体器件的快速发展对封装互连材料提出了更高的要求。微纳铜材料具有良好的导电、导热和机械性能。与常用的微纳银相比,微纳铜具有更强的抗电迁移能力和更低的成本,在封装互连领域被广泛应用。微纳铜材料的制备方法可分为化学法、物理法、生物法3 类,其中化学液相还原法以低成本、高可控、工艺简单等优势占据重要地位。不同的封装互连工艺步骤需要不同形貌的微纳铜颗粒。微纳铜材料在封装互连中主要应用于芯片固晶、Cu-Cu键合、细节距互连等工艺,探讨了微纳铜材料在以上工艺中的应用,并对微纳铜材料在封装互连中的应用进行了展望。
关键词:微纳铜;化学液相还原法;封装互连

目录介绍

0 引言

1 微纳铜材料的制备方法

1.1 化学法

1.2 物理法

1.3 生物法

2 微纳铜材料在封装互连工艺中的应用

2.1 芯片固晶的互连焊料

2.2 Cu-Cu键合

2.3 细节距互连

3 结束语

 

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