中国高纯电解铜制备工艺及工业应用现状

郭廷宏1, 于德鑫2(1.同创普润(上海)机电高科技有限公司;2.哈尔滨同创普润集团有限公司)
摘要:随着电子信息工业和智能化革命的发展,中国电子相关行业对原材料的需求和质量要求也愈发严苛。在半导体行业中,铜(尤其是高纯铜)因其本身卓越的物理、化学性质,如优良的电迁移抗力、导电性、导热性、延展性,较低的介电常数及抗腐蚀性等优点,在市场应用中展现出巨大潜力,但在生产供应的质量和数量上始终无法满足半导体行业需求。湿法冶金制备电解铜作为生产高纯铜的主要工艺,其凭借制备方法简单、工艺成熟、生产成本投入少、能量损耗低等优势在高纯金属制备行业中占据主导地位。然而,在高纯电解铜制备过程中,制备工艺、参数控制的差异性会导致高纯电解铜品质波动较大。本文通过论述不同的电解铜制备方案,详细分析电解铜制备生产工艺中的优缺点和实施案例,归纳总结超高纯金属制备方法的优势及挑战。最后,基于中国高纯电解铜生产和需求现状进行了展望,加速高纯电解铜产业化生产建设将有利于加快中国半导体发展所需的高纯电解铜国产化进程,缓解中国高、精、尖领域原材料依赖进口的问题。
关键词:高纯电解铜;制备工艺;离子吸附机理;电解精炼;电解液添加剂

目录介绍

1 中国高纯铜的工业应用现状

1.1 高纯铜分类及其制造业发展现状

1.2 纯铜及其合金产品应用及其发展现状

1.3 高纯铜在半导体行业的应用现状

1.4 高纯铜制备工艺

2 电解液添加剂作用机理

2.1 电化学吸附

2.1.1 特性吸附

2.1.2 静电吸附

2.1.3 分子间作用力吸附

2.2 吸附过程对电沉积的调控机制

2.2.1 成核与晶粒生长控制机

2.2.2 界面传质与电荷转移调控

2.3 杂质与副反应抑制

2.3.1 阳极侧电解过程中的副反应

2.3.2 阴极侧电解过程中的副反应

3 高纯电解铜制备工艺

3.1 萃取-电化学沉积高纯铜制备工艺

3.2 过滤净化-电解/电沉积高纯铜制备工艺

4 结论

 

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