碳化硅真空纳米电子器件技术分析 摘要:新兴的真空纳米电子器件兼具固态器件集成电路和传统真空电子器件的优势。但和硅器件同工艺、同片集成的现状,限制了其在恶劣环境的应用。使用宽禁带半导体碳化硅材料制备真空纳米电子器件,可在耐辐射基础上兼具抗高温特性,使该器件具备良好的综合优势。文章分析了硅器件及集成电路发展中面临的问题,回顾了真空纳米电子器件的发展历史,介绍了碳化硅材料的相对优势以及SiC基真空纳米电子器件研究现状,并对该器件发展及应用前景进行了分析。 光电 2025年02月11日 1 点赞 0 评论 131 浏览
高逼真3D光场显示关键技术 摘要:详细总结了高逼真3D光场显示的关键技术及其基本原理,包括光场显示系统构建、光场显示控光技术和光场显示图像编码等,并详细阐述了它们在3D 光场显示技术中的作用。为使高逼真3D光场显示技术真正地得到推广应用,必须全面考虑各种因素,包括完善显示系统的构建、控光技术的优化和编码技术的改进。希望该综述能够为3D光场显示技术的研究和发展提供有益参考。 光电 2025年07月28日 1 点赞 0 评论 22 浏览
芯片制造中的化学镀技术研究进展 摘要:芯片制造中大量使用物理气相沉积、化学气相沉积、电镀、热压键合等技术来实现芯片导电互连. 与这些技术相比, 化学镀因具有均镀保形能力强、工艺条件温和、设备成本低、操作简单等优点, 被人们期望应用于芯片制造中, 从而在近年来得到大量的研究. 本综述首先简介了芯片制造中导电互连包括芯片内互连、芯片3D 封装硅通孔(TSV)、重布线层、凸点、键合、封装载板孔金属化等制程中传统制造技术与化学镀技术的对比, 说明了化学镀用于芯片制造中的优势; 然后总结了芯片化学镀的原理与种类、接枝与活化前处理方法和关键材料; 并详细介绍了芯片内互连和TSV互连化学镀阻挡层、种子层、互连孔填充、化学镀凸点、再布线层、封装载板孔互连种子层以及凸点间键合的研究进展; 且讨论了化学镀液组成及作用, 超级化学镀填孔添加剂及机理等. 最后对化学镀技术未来应用于新一代芯片制造中进行了展望. 光电 2024年12月11日 1 点赞 0 评论 288 浏览
大尺寸金刚石晶圆复制技术研究进展 摘要:半导体技术的发展离不开大尺寸晶圆的高效制备。在半导体领域,晶圆复制可以通过同质外延生长后进行切割或者基于异质衬底进行异质外延来实现,从而批量生产。金刚石作为新型超宽禁带半导体材料,在电真空器件、高频高功率固态电子器件方面具有良好的应用前景。而由于金刚石材料具有极高硬度,晶圆复制也面临诸多问题。传统的激光切割方法虽然可以实现对超硬特性金刚石进行加工,但其较高的加工损耗已经无法满足大尺寸晶圆的制备需求,呕需开发损耗小、效率高的金刚石晶圆复制技术。文章介绍了目前常见的半导体晶圆复制技术,总结了金刚石复制技术的研究进展及现阶段发展水平,并对未来大尺寸金刚石晶圆复制技术的发展方向进行了分析与展望。 光电 2025年02月12日 1 点赞 0 评论 130 浏览
基于神经网络的多朝向LED可见光定位 摘要:为改善基于传统定位算法的多朝向LED 可见光定位(MD-VLP)系统的定位性能,提出一种基于接收信号强度比率值(RSSR)的神经网络方法。此方法采用单个光电检测器(PD)接收来自同一位置的多个不同朝向的LED光强,继而将RSSR 代入人工神经网络模型来估计平面坐标。实验结果表明,所提方法在PD处于水平时平均定位误差为2.96 cm,在PD倾斜15°时平均定位误差为5.51 cm,其性能相比于基于RSSR的最小二乘法有显著提高。此外,为了验证所提方法的普适性,仿真分析了两种非朗伯辐射光源构成的多朝向LED集成灯具的定位性能,仿真结果显示,所提方法分别获得了3.70 cm和6.22 cm的平均定位误差,并支持PD适度倾斜。进一步地,设计了一款采用多朝向非朗伯辐射面状光源的VLP集成灯具,实验结果表明,所提方法在PD处于水平或适度倾斜状态时仍能有效工作。 光电 2025年08月03日 1 点赞 0 评论 3 浏览
面向神经电子接口器件的有机材料进展与展望 摘要:神经电子接口器件能够在生物体神经系统界面与数字世界之间创建直接连接, 实现信号的采集、操控与反馈,是实现神经系统与外界双向交互的桥梁. 有机分子具有多重弱相互作用, 是与生命体的分子结构和力学性质最相似的光电功能材料, 是用来构筑神经接口材料与器件的理想载体. 本文总结了面向神经电子接口器件的有机材料研究进展,汇总了有机材料在分子设计和聚集态结构调控方面的研究策略, 并展望了神经接口器件的有机材料发展方向. 光电 2024年12月12日 1 点赞 0 评论 163 浏览
金刚石半导体及功率肖特基二极管研究进展和挑战 摘要:金刚石作为一种超宽禁带半导体,是下一代功率电子器件和光电子器件最有潜力的材料之一。其产业化仍需解决几个关键技术问题:大尺寸单晶外延生长、高质量晶圆制备技术、高效可控的掺杂技术及先进终端结构。首先,介绍了拼接生长以及异质外延获得大尺寸单晶衬底的研究进展。进而,综述了大尺寸单晶金刚石位错、缺陷调控技术及其加工技术的研究进展。最后,从功率器件设计及制备角度总结了金刚石掺杂及终端结构设计面临的挑战并提出了潜在的解决方案。 光电 2025年02月13日 1 点赞 0 评论 138 浏览
碲锌镉晶体的铟碲共掺杂退火研究 摘要:针对生长态碲锌镉晶体缺陷密度大和电学性能无法满足室温核辐射探测器的制备要求等问题,研究了铟碲共掺杂退火对碲锌镉晶体碲夹杂和电学性能的影响。利用分子动力学方法模拟了不同温度下铟原子在碲锌镉晶体中的扩散过程,获得了铟原子的扩散系数表达式,计算了铟原子扩散至碲锌镉晶体所需理论时长,在此基础上开展了铟碲共掺杂退火实验,进一步优化了退火工艺。实验结果表明,铟碲共掺杂退火70 h的碲锌镉晶体碲夹杂密度下降至27.61mm-2,体电阻率接近1011Ω·cm、漏电流低于4 nA(400V),电学性能达到核辐射探测器应用要求。 光电 2024年12月13日 1 点赞 0 评论 155 浏览
电子浆料用微细金属粉体材料研究进展 摘要:电子浆料是电子信息行业的基础材料,广泛应用于航空、航天、电子信息、通信设备、汽车工业等诸多领域。随着电子信息快速化、高集成化的发展趋势,作为导电相的金属粉体材料要求具备高纯、形貌可控、无团聚、粒径可控且分布窄、氧含量低等特点。本文总结了电子浆料的主要用途,并对微细金属粉体材料的制备方法进行分析,提出了球形、片状微细金属粉体材料制备技术及应用的发展方向。 光电 2024年08月06日 1 点赞 0 评论 244 浏览
金刚石固态微波功率器件研究进展和展望 摘要:被誉为终极半导体材料的金刚石具有超宽的禁带宽度、超高击穿电场、高的载流子漂移速率、极高的热导率、极强的抗辐射能力等特性,在微波功率器件领域具有很好的应用前景。金刚石微波功率器件的研究近几年引起了广泛关注,文章总结了金刚石微波功率器件的研究进展,重点分析了目前主流的氢终端金刚石、表面氧化物终端金刚石和掺杂金刚石实现的微波功率器件的研究进展、面临问题和发展展望。 光电 2025年02月14日 1 点赞 0 评论 231 浏览