应用于高密度多层光存储的聚合物基存储介质

段宇豪,杨凤英,丁奕同,熊英,郭少云 (高分子材料工程国家重点实验室(四川大学) 四川大学高分子研究所四川省橡塑材料复合成型技术工程实验室)
摘要:飞秒微爆多层光存储是一种新型光存储技术,它通过在介质内部记录多层数据,成倍地扩充了光盘容量极限,有望解决传统光盘容量过低的问题。但由于飞秒微爆多层光存储信息记录过程受到多种材料因素的共同影响,导致长期缺乏介质材料选择的理论依据。文中选择误码率作为光存储性能的关键指标,测试对比了不同光学树脂的光存储性能。采用相关系数量化了材料的力学性质、热性质、光学性质、介电常数和高分子链结构与光存储性能之间的依赖关系,从而揭示出光学树脂的高分子链结构才是影响光存储性能的决定性影响因素。基于此发现,在聚甲基丙烯酸甲酯材料中实现了60层高密度多层光存储信息读写测试,容量密度达到1600 Gbits/cm3。
关键词:光存储;存储介质;飞秒激光;多光子吸收

目录介绍

1 实验部分

1.1 材料与仪器

1.2 实验过程

1.3 测试与表征

1.3.1 拉伸性能测试

1.3.2 热重分析

1.3.3 光学性能测试

1.3.4 介电性能测试

1.3.5 相对分子质量测试

1.3.6 光存储性能测试

1.3.7 开孔Z扫描分析

2 结果与讨论

2.1 聚合物基存储介质的高密度光存储性能

2.2 聚合物基存储介质材料性质与光存储性能的依赖关系

2.3 聚合物基存储介质的多光子吸收

2.4 聚合物基存储介质的辐照损伤

2.5 PMMA材料的高密度光存储

3 结论

 

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