基于纳米铜膏的导电结构激光并行扫描烧结成型技术
王文哲,李权震,余胜涛,笪贤豪,何伟伟,杨冠南,崔成强(广东工业大学省部共建精密电子制造技术与装备国家重点实验室)
摘要:针对柔性基板中导电结构的快速成型,对纳米铜膏的多道激光并行扫描烧结技术进行了优化。探究了不同功率和填充间距对激光烧结过程中的纳米铜膏烧结形貌和电阻率的影响,得出最佳的工艺参数。适当缩小间距可提高烧结程度和导电性,但间距过小易导致基板过热。实验结果表明,最佳工艺参数组合为功率170 mW、间距10 μm、光斑直径15 μm,此时烧结线路呈现金属铜色,并形成网状烧结结构,测得电阻率为5.32×10-6 Ω·cm。对比聚酰亚胺(PI) 和聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET) 薄膜在激光烧结过程中的效果,分析了基板的耐热性和透光性对烧结效果的影响机理,为后续清洗工艺提供可行性参考。
关键词:激光烧结;导电结构;基板材料;纳米铜膏
目录介绍
0 引言
1 实验材料及方法
1.1 纳米铜膏的制备
1.2 样品的涂覆、烧结和表征方法
2 实验结果与分析
2.1 纳米铜颗粒表征
2.2 激光功率与扫描间距的影响
2.3 基板物性对烧结的影响
3 结论
©软件著作权归作者所有。本站所有文件均来源于网络,仅供学习使用,请支持正版!
转载请注明出处!
发表评论 取消回复