蓝宝石化学机械抛光液的研究进展
屈明慧，牛新环，侯子阳，张银婵，朱烨博，闫晗，罗付 （河北工业大学电子信息工程学院，天津市电子材料与器件重点实验室）
摘要：简介了蓝宝石化学机械抛光(CMP)的基本原理，从磨料、pH 调节剂、表面活性剂、配位剂和其他添加剂方面概述了近年来蓝宝石CMP 体系的研究进展，展望了蓝宝石CMP 体系未来的研究方向。
关键词：蓝宝石；化学机械抛光；抛光液；磨料；添加剂；综述
目录介绍
1 蓝宝石CMP 的工作原理
2 蓝宝石CMP 抛光液的研究进展
2. 1 磨料对蓝宝石CMP 性能的影响
2. 1. 1 单一磨料
2. 1. 2 混合磨料
2. 1. 3 复合磨料
2. 2 添加剂对蓝宝石CMP 的影响
2. 2. 1 pH 调节剂
2. 2. 2 表面活性剂
2. 2. 3 配位剂
2. 2. 4 其他添加剂
3 结语
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