电镀铜技术在电子材料中的应用
余德超,谈定生 (上海大学材料科学与工程学院)
摘要:电镀铜层具有良好的导电、导热、延展性等优点,因此,电镀铜技术被广泛应用于电子材料制造领域。本文概括了几种常用电镀铜体系的特点,重点介绍了在电子制造中应用较广的酸性硫酸盐电镀铜镀液的组成和各成分作用。简述了电镀铜在铜箔粗化、印制电路制作、电子封装、超大规模集成电路(ULSI)铜互连领域的应用,并对近年来电子工业中应用的几种先进电镀铜技术,包括脉冲电镀铜技术、水平直接电镀铜技术、超声波电镀铜技术、激光电镀铜技术等进行了评述。
关键词:电子材料;电镀铜;铜箔粗化;印制电路;电子封装;超大规模集成电路(ULSI)
目录介绍
1 前言
2 电镀铜简介
2.1 常用的电镀铜镀液及特点
2.2 酸性硫酸盐电镀铜镀液组成及各成分作用
2.2.1 硫酸铜
2.2.2 硫酸
2.2.3 Cl–
2.2.4 添加剂
3 电镀铜在电子材料领域的应用
3.1 铜箔粗化处理
3.2 PCB 制作
3.2.1 PCB 微孔制作
3.2.2 PCB 电路图形制作
3.3 IC 封装技术的应用
3.4 超大规模集成电路芯片(ULSI 芯片)中铜互连
4 先进电镀铜技术
4.1 脉冲电镀铜技术
4.2 水平直接电镀铜技术
4.3 超声波电镀铜技术
4.4 激光电镀铜技术
5 结语
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