金属纳米材料低温键合及图形化制备研究进展

杜荣葆1,2,邹贵生1,2,王帅奇1,2,刘磊1,2 (1. 清洁高效透平动力装备全国重点实验室,清华大学机械工程系;2. 先进成形制造教育部重点实验室)
摘要: 利用金属纳米材料的尺寸效应可显著降低连接温度,提高焊点可靠性,以银纳米焊膏为代表的金属纳米低温连接材料在第三代半导体为代表的功率芯片封装中充分验证并量产。面向集成电路的先进封装需要图形化焊点,将功率芯片封装技术转移到先进封装中,需要同时满足低温键合和图形化键合的要求,极大地增加了技术难度。文中首先剖析了金属纳米材料降低键合温度的基本科学原理,并进一步综述了不同纳米材料低温键合的研究现状,重点总结了可键合纳米材料的图形化方法,为先进封装中细节距、高精度、高效率的图形化低温键合提供技术参考。创新点: (1) 阐述了金属纳米材料实现低温键合的基本原理及理论研究进展。(2) 综述了不同形态的金属纳米材料用于低温键合的研究现状。(3) 系统地总结了针对不同金属纳米材料图形化制备方法的研究进展。
关键词: 先进封装;金属纳米材料;低温键合;图形化

目录介绍

0 序言

1 金属纳米材料低温键合机理

2 金属纳米材料低温键合研究现状

2.1 金属纳米颗粒

2.2 金属纳米线

2.3 金属纳米片

2.4 金属纳米多孔骨架

3 金属纳米材料图形化制备方法

3.1 基于焊膏/油墨的图形化方法

3.2 基于沉积的图形化方法

3.3 基于电镀的图形化方法

4 结束语

 

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