工业纯钛TA2的电解抛光/腐蚀工艺

朱晓俊,徐伏根,冯骥,张力,王岱庆,陆旭映,陈炎,吴昊,唐裕骞(杭州汽轮动力集团股份有限公司)

摘要: 对工业纯钛TA2的电解抛光/腐蚀的电解液配方和工艺参数进行了研究与优化,得到的最佳电解液配方是90 mLHF,20 g (NH4) 2S2O8,200 mL CH3CH2OH,360 mL H2O,与之匹配的工艺参数是抛光电压50 V,电解液流量20 mL/s,抛光时间50 s,电解抛光/腐蚀后得到的试样表面平整,组织清晰,无污染,且制样时间短,较机械抛光/腐蚀有很大的进步,采用该配方,调整相应工艺参数便可电解抛光其他钛合金材料。

关键词: 工业纯钛;电解抛光/腐蚀;配方;电解参数;显微组织