氮化钼薄膜的制备、性能及其应用研究进展
童品森,魏宁,吴宏荣 (江南大学机械工程学院)
摘要:氮化钼作为过渡金属氮化物的典型代表,具有良好的导电性以及优异的力学性能、电化学性能,在催化、储能、集成电路、保护涂层等领域有着广泛的应用前景。然而,目前国内有关氮化钼薄膜的综述较少。首先总结了氮化钼的分子结构及其物理性能和力学性能;其次总结了氮化钼薄膜的主要制备方法,包括溶液法、溅射法、原子层沉积法以及化学气相沉积法等,归纳了各种氮化钼薄膜制备方法的优缺点及其适用的场景;最后,对氮化钼薄膜的潜在应用前景进行了总结和展望。
关键词:氮化钼薄膜; 物理性能; 力学性能; 制备方法; 应用
目录介绍
0 前言
1 氮化钼的结构
2 氮化钼的性质
2.1 力学性质
2.2 电学性质
2.3 光学性质
3 氮化钼的制备方法
3.1 原子层沉积法(ALD)
3.2 化学气相沉积法(CVD)
3.3 溅射法
3.4 溶液法
4 氮化钼的应用
4.1 氮化钼薄膜作为金属扩散的保护屏障
4.2 氮化钼涂层
4.3 锂离子电池和超级电容器的电极材料
4.4 表面增强拉曼散射基底
5 总结
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