氧化铪薄膜的制备、调控与应用研究进展

张馨阳1,姚玮洁2,王勇1(1.中国科学院过程工程研究所;2.智汇(天津)工程设计院有限公司)

摘要: 全面综述了氧化铪(HfO2)铁电薄膜的制备、性能调控及应用研究进展。HfO2 薄膜因独特的物理和化学性质,在电子器件领域展现出广阔的应用前景。文章详细介绍了多种制备方法,分析了各方法的特点及适用场景。进一步探讨了掺杂元素、薄膜厚度、制备工艺、氧空位等对HfO2 薄膜铁电性能的影响机制,阐述了通过调控这些因素实现性能优化的策略。最后,综述了HfO2 薄膜在微电子、光学、能源和生物等领域的广泛应用,展示了其在非易失性存储器、透明铁电材料、高性能传感器及生物医学器件等方面的潜力。

关键词: 氧化铪(HfO2)薄膜;铁电性能;制备方法;性能调控;薄膜应用