微波等离子体化学气相沉积制备金刚石厚膜的研究及应用进展

刘富成，马莞杰，黄江涛，张宗雁，韩培刚，何斌（深圳技术大学 新材料与新能源学院）

摘要：近年来，随着化学气相沉积（CVD）制备金刚石技术的发展，关于金刚石的研究与应用受到越来越多的关注。目前，主要的CVD 技术有微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）、热丝化学气相沉积、直流电弧等离子体喷射化学气相沉积和热阴极等离子体化学气相沉积等。MPCVD 技术因其生长的金刚石品质高，被认为是制备大面积、高质量金刚石厚膜的最佳方法。首先介绍MPCVD 的基本原理和设备，比较几种主要MPCVD 技术的优缺点，并对国内外的研究进展进行总结，包括金刚石生长工艺的研究，特别是国内外单晶/多晶金刚石厚膜的制备研究，然后总结近年来金刚石厚膜在电子、光学、热沉等高新技术领域的应用，最后对金刚石厚膜的发展前景进行展望。

关键词：金刚石厚膜；微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）；CVD 设备