面向高端装备的高精度六自由度光栅干涉测量技术

摘要：光栅干涉仪以光栅栅距为测量基准，具有较强的抗环境干扰能力，并兼具精度高、分辨率高和自由度易扩展等优点，在光刻机、精密机床等高端制造装备中发挥着关键作用。系统综述六自由度光栅干涉测量技术的研究进展，依据技术特征将现有方案划分为位置敏感器件辅助测量和多读数头协同测量两类路线，深入分析不同技术路线的优势与局限性。在此基础上，展望六自由度光栅干涉测量系统的未来发展方向，期望为该领域理论体系的完善和技术创新提供参考，并助力相关应用领域实现高质量发展。

光电 2026年11月02日 1 点赞 0 评论 70 浏览

基于超快相干极紫外光源的半导体量检测技术

摘要：近些年，随着光刻工艺节点越来越小，先进光刻对于新的量检测工具提出了新的需求，基于短波长、高亮度、相干极紫外（EUV）光源的量检测技术成为一个重要的研究方向。本文回顾了基于极紫外光源的量检测技术如相干衍射成像、散射量测以及瞬态光栅等的研究现状及其在先进光刻工艺中的应用前景。

光电 2026年10月30日 1 点赞 0 评论 61 浏览

极紫外光学衍射显微成像技术与应用

摘要：极紫外波段凭借其极短波长及与原子内层电子结合能相近的光子能量，可在纳米尺度实现超越衍射极限的高分辨率成像，且具备元素特异性分析能力。极紫外光学衍射成像作为一种无透镜计算成像技术，通过记录样品的衍射图样并利用相位恢复算法重建样品结构，有效避免了极紫外光学元件加工困难与成本高昂的问题。本文将系统阐述极紫外衍射成像的物理原理，重点评述相干衍射成像与叠层成像等主流方法的重建机制与研究进展，总结其在多个前沿领域中的典型应用，并探讨该技术在光源、算法等方面面临的挑战，最后展望其在动态探测、三维成像及多模态融合等领域的未来发展。

光电 2026年10月28日 1 点赞 0 评论 73 浏览

基于超表面的皮米精度测量前沿进展

摘要：随着微电子器件跨入亚纳米制程节点，关键工艺中原子级位移偏差已超越传统测量技术极限，具有皮米级（10-12 m）精度的光学位移传感器件成为解决制造瓶颈的关键。超表面凭借其突破性的高集成度、轻量化架构与强电磁波调控能力，为新一代精密测量系统提供了颠覆性解决方案。本文以纳米天线电磁响应原理为起点，介绍超表面对自由空间光场的调控机制，及其在高精度位移检测等方面的应用原理，揭示其相较于传统光学元件的本质优势；通过系统综述基于纳米天线的皮米级位移传感系统及涵盖亚纳米至皮米精度的超表面位移测量技术，总结其在极端尺度测量的应用潜力。同时，基于当前微纳加工技术在位移测量方向面临的关键技术挑战，探讨突破现有性能边界的发展路径，为未来皮米精度测量技术的发展指明方向。

光电 2026年10月27日 1 点赞 0 评论 62 浏览

基于微纳光学光场调控的超精密位移检测技术及进展

摘要：系统综述了微纳光学的光场调控技术在超精密位移检测领域的最新研究进展，重点探讨了微纳光学赋能的新型位移检测方案及其在提升检测精度与系统集成度方面的重要作用。详细归纳了三类代表性技术路径：基于结构光场奇点效应的精细光尺方法、基于光学天线共振模式局域场增强的位移传感技术，以及基于超表面多功能调控的高精度位移检测技术。对微纳光学的研究可实现对光波前振幅、相位和偏振等自由度的高精度调控，基于微纳光学新结构、新效应、新方法，可实现纳米量级至皮米量级的位移分辨率，显著提升位移测量灵敏度、多维信息获取能力与环境适应性。当前，该领域正朝着智能检测方向快速发展，通过融合低成本纳米加工、人工智能辅助信号处理和多物理场耦合测量等先进技术，有效推动微纳光学超精密位移检测在半导体制造、生物显微成像和航空航天等领域的规模化应用，将为高端装备制造与精密工程提供新一代核心测量技术支撑。

光电 2026年10月26日 1 点赞 0 评论 76 浏览

金微纳结构飞秒激光3D打印技术

摘要：三维（3D）贵金属微纳结构具有独特的光学、力学与电子特性，在超表面、电子学、表面增强拉曼散射等领域具有重要应用意义。提出了一种基于金离子螯合吸附原理与飞秒激光直写工艺的3D 金微纳结构的增材制造方案。首先，制备了一种具有离子螯合能力的纯有机光刻胶前驱体材料；其次，系统研究了飞秒激光功率与直写速度对前驱体材料聚合形貌的影响，以及离子浸泡时间与吸附次数对金元素质量分数的调控规律；最后，通过热解过程去除有机组分，实现了特征尺寸为93 nm、电导率达2.1×107 S/m 的3D 金微纳结构的高效制备，对未来金微纳结构在光学、电子学的应用提出了一种新的增材制造路线。

光电 2026年10月23日 1 点赞 0 评论 72 浏览

超分辨并行激光直写光刻技术与装备

摘要：随着先进制造、生物医学与微纳器件等领域对微纳结构加工精度、复杂度和效率要求的不断提升，激光直写技术以其高分辨率、三维自由制造能力和多材料适应性，成为高端微纳制造的重要技术路径。尤其近年来，通过引入多焦点并行曝光、光场调控、功能光刻胶等，激光直写技术正逐步从理论科研走向工程化、产业化。围绕高精度、高通量、光刻胶材料和产业化装备4 个方面，系统综述超分辨并行激光直写关键技术与装备的原理、发展概况与应用前景。

光电 2026年10月22日 1 点赞 0 评论 71 浏览

基于超构表面的多维光场调控机理及技术研究进展

摘要：相较于传统体光学元件，超构表面兼具小型化、轻量化及制备工艺与半导体CMOS（complementary metal oxidesemiconductor）技术兼容等显著优势，为构建紧凑型多维光场调控系统提供了理想的集成化平台，近年来引发了国内外广泛研究热潮。首先系统阐述基于超构表面的单维光场调控机制，重点探讨了多维度联合调控原理与方法；通过列举基于超构表面的多维调控光学器件的创新应用，展示了其在提升信息容量、安全性与系统集成度方面的潜力；最后对基于超构表面的多维光场调控技术进行了总结与展望。

光电 2026年10月21日 1 点赞 0 评论 121 浏览

低维非铅金属卤化物的X射线闪烁体成像研究进展

摘要：X射线闪烁体成像技术在医疗诊断、安全检查、工业无损检测和空间探测等方面具有极其重要的作用。低维非铅金属卤化物半导体由于具有结构可调、发光效率高、X 射线吸收能力强、斯托克斯位移大和可溶液法制备等优势，已成为X 射线闪烁体探测成像领域的“明星材料”。重点围绕X 射线闪烁体探测成像的工作原理、关键参数和低维非铅金属卤化物材料的特点进行介绍，然后对近几年基于低维非铅金属卤化物的X 射线闪烁体探测成像的研究进展进行综述，系统性地分析低维非铅金属卤化物的结构和光电特性对X 射线闪烁体探测成像性能的影响。最后，对目前基于低维金属卤化物的X 射线闪烁体探测成像技术商业化所面对的挑战和解决方法进行展望。

光电 2026年10月20日 1 点赞 0 评论 65 浏览

多场景用光纤光缆技术与应用

摘要：随着5G、数据中心等快速发展，全球数据流量呈现指数级增长。传统光纤光缆在容量密度、环境适应性及多场景应用上面临重大挑战。系统探讨了多场景光纤光缆技术的演进方向。通过研究空分复用光纤技术、薄壁微束管工艺、全干式对称光缆结构和集成直插锁紧等技术，开发抗弯光纤、耐辐照光纤、大芯数光缆与光连接技术。研究结果表明，通过材料创新、结构优化与工艺突破，光纤光缆技术可兼顾高密度化、微型化与功能化需求，适应算力网络、智能传感等多场景应用需求。未来需要持续探索多芯少模光纤、空芯光纤及绿色制造技术，推动光纤从传输通道向智能连接底座发展。

光电 2026年10月19日 1 点赞 0 评论 71 浏览