超分辨并行激光直写光刻技术与装备

温积森1,2，罗梦迪1,2，苏晨怡3，张力,3，孙伯文1,2，曹春2,4，匡翠方1,2，刘旭1,2（1浙江大学光电科学与工程学院；2浙江大学极端光学技术与仪器全国重点实验室；3浙江大学杭州国际科创中心；4杭州电子科技大学机械工程学院）

摘要：随着先进制造、生物医学与微纳器件等领域对微纳结构加工精度、复杂度和效率要求的不断提升，激光直写技术以其高分辨率、三维自由制造能力和多材料适应性，成为高端微纳制造的重要技术路径。尤其近年来，通过引入多焦点并行曝光、光场调控、功能光刻胶等，激光直写技术正逐步从理论科研走向工程化、产业化。围绕高精度、高通量、光刻胶材料和产业化装备4 个方面，系统综述超分辨并行激光直写关键技术与装备的原理、发展概况与应用前景。

关键词：双光子聚合；激光直写；超分辨；高通量